真空技術(shù)領(lǐng)域中一項(xiàng)重要內(nèi)容是真空檢漏技術(shù)，真空檢漏有正壓檢漏或負(fù)壓檢漏，檢漏儀一般都需要標(biāo)準(zhǔn)漏孔對其靈敏度進(jìn)行校準(zhǔn)。標(biāo)準(zhǔn)漏孔也根據(jù)用途和校準(zhǔn)方法分為正壓漏孔和真空漏孔，本文只限于真空漏孔的校準(zhǔn)(以下稱為標(biāo)準(zhǔn)漏孔)。常見的標(biāo)準(zhǔn)漏孔有玻璃鉑絲型、薄膜滲氦型、玻璃毛細(xì)管型、金屬壓扁型、多孔型和放射型。

       標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的絕對校準(zhǔn)方法有流量計(jì)法和氣體累積法兩種，目前國內(nèi)多采用前一種方法，例如國家計(jì)量院和蘭州近代物理研究所都建立了裝置。美國國家標(biāo)準(zhǔn)(ASTM E908-98)采用了氣體累積法建立的標(biāo)準(zhǔn)裝置。

1、裝置簡介及工作原理

1．1、膨脹法真空裝置

    膨脹法壓力校準(zhǔn)系統(tǒng)最早是1910年由克努曾最早提出，該方法基于利用波義耳一馬略特定律，即在恒溫條件下，一定質(zhì)量的氣體的壓力與體積之積為一常數(shù)。單級膨脹系統(tǒng)結(jié)構(gòu)比較簡單，就是將穩(wěn)壓室內(nèi)壓力為尼的氣體通過體積為K的小體積取樣，膨脹到體積為V的大體積的校準(zhǔn)室中，通過計(jì)算得到校準(zhǔn)室內(nèi)的低壓力值P見公式(1)。

P = P₀V_s／(V+V_s)= kP₀   （1）

   其中k=V_s／(V+V_s)稱做膨脹比。如果連續(xù) n 次膨脹，校準(zhǔn)室內(nèi)的壓力值P可以方便地近似按照公式(2)計(jì)算，此公式可以校準(zhǔn)熱傳導(dǎo)真空計(jì)或電離真空計(jì)。
    但對于高精度的薄膜真空計(jì)必須按照精確公式(3)計(jì)算。

P⁽ⁿ⁾ = nkP₀    （2）

P⁽ⁿ⁾ = kP₀⁽ⁿ⁾ + （1-k）P^(n-1)    （3）

式中：P⁽ⁿ⁾——————第 n 次膨脹后校準(zhǔn)室內(nèi)的壓力值 (Pa)

     P^(n-1)——————第(n-1)次膨脹后校準(zhǔn)室內(nèi)的壓力值 (Pa)

     P₀⁽ⁿ⁾——————第 n 次取樣時(shí)間穩(wěn)壓室內(nèi)的壓力值 (Pa)

    在不同年代、不同實(shí)驗(yàn)室、不同研究者所研制的膨脹法標(biāo)準(zhǔn)裝置無論在結(jié)構(gòu)和性能上都有很大的差異。我們所建立的標(biāo)準(zhǔn)裝置技術(shù)參數(shù)如表1。