干式泵抽除顆粒物的措施與方法
在半導體產(chǎn)業(yè)為主要應用對象的干式泵會因許多工藝過程的抽氣而出現(xiàn)一些顆粒物, 以前用PFPE油的油封式機械泵, 有油封作用, 因此成了顆粒物的捕集器, 混在油里的顆粒物過濾除掉, 造成維護工作量加大, 運行成本也提高了。
在半導體工業(yè)中使用的氣體和反應生成物都要通過泵中, 這些物質(zhì)與空氣和濕氣混合,能形成氧化物, 有些能自燃引起爆炸,因此在半導體工藝中使用的真空泵要經(jīng)過這些惡劣環(huán)境的考驗。一般來說, 在真空泵中出現(xiàn)顆粒物有三種情況。
① 有時泵內(nèi)壓力增高,而引起氣固變態(tài)過程的發(fā)生;
② 在泵內(nèi)氣體成分的反應生成物。
③ 抽氣過程混入的顆粒物。
防止顆粒物在泵中形成是最好的措施: 一般物質(zhì)的升華是壓力和溫度的函數(shù),各種物質(zhì)都不相同,若簡單調(diào)整泵的溫度也可避免氣固變態(tài)過程的發(fā)生。例如在Al刻蝕過程中,反應生成物AlCl3,由蒸汽壓表明, 在溫度> 80℃時AlCl3就揮發(fā)了, 如果能控制泵溫,AlCl3的沉積就可以避免。由此可見不是泵溫越低越好。單位時間形成顆粒物的數(shù)量用反應率來表示
式中 r ——反應率 T ——熱力學溫度
K0——常數(shù) Ci——成分i的濃度
E ——激活能ni ——Ci的指數(shù)
R ——氣體常數(shù)
從公式得知, 減少濃度是降低生成顆粒物的有效的辦法。而且充入惰性氣體也是最容易實現(xiàn)的。改變公式中的E和T是有局限性的。這種反應在高壓下容易發(fā)生, 因此在泵的壓縮開始之前就通入惰性氣體才行。
這種方法也可以防止CVD過程中出現(xiàn)爆炸的危險, 引入惰性氣體N2,使其濃度降低到低于著火極限,在這種條件下,反應率很低不會有爆炸發(fā)生。直到現(xiàn)在, 還不能完全阻止顆粒物在泵腔內(nèi)生成。為了保證顆粒物處于懸浮狀態(tài), 防止沉積, 氣體的流動速度必須大于顆粒的臨界速度(即最大的降落速度)。
顆粒的臨界速度和壓力之間的關(guān)系, 如圖17所示,顆粒尺寸對其臨界速度的影響很大,要保證小的臨界速度Vt,顆粒也要很小,才能很好的被抽走。
圖17 顆粒物的臨界速變與壓力的關(guān)系
泵內(nèi)的壓縮過程氣流的速度Vgas可由下式計算
式中 Qpv——為氣流量
P——壓力
A ——流道的斷面積
若壓力P增加會引起氣流速度下降。隨著壓力增加, 氣流速度達到或大于臨界速度,使顆粒物處于懸浮狀態(tài)。顆粒物的形成也多半在壓力增高時發(fā)生。如向泵內(nèi)及早充入氣體, 以使顆粒尺寸還小, 有盡可能小的臨界速度, 充入的氣體量要大,使氣流速度大于臨界速度,保證了顆粒物實現(xiàn)氣力輸送,這樣一來每級卻都要充入氣體, 充入的氣體量與壓力成正比,以保證有足夠的氣流速度。
充入氣體量對泵的性能是有影響的, 要滿足性能要求才行。
如泵在極限壓力下運行, 即
式中 S th ——泵的幾何抽速
Pc——極限壓力
qpv ——內(nèi)部的返流量
若想得到一定的極限壓力Pc, 就必須減少泵內(nèi)部高壓側(cè)向低壓側(cè)的返流量, 為了抽除顆粒物, 充入氣體增加了內(nèi)部返流量, 因此要將充入的氣體量, 達到對極限壓力影響最小的程度為好。