中國真空學(xué)會2016 學(xué)術(shù)年會征文通知（第二輪）

2016-03-11 中國真空學(xué)會中國真空學(xué)會

中國真空學(xué)會2016 學(xué)術(shù)年會征文通知(第二輪)

　　由中國真空學(xué)會主辦、云南師范大學(xué)與北京大學(xué)承辦的中國真空學(xué)會2016學(xué)術(shù)年會將于2016年8月12-14日在云南省昆明市舉辦。熱切希望全體學(xué)會會員、理事及科研院所、企業(yè)同仁等踴躍投遞論文。

　　大會將設(shè)一個主會場和六個分會場。(六個分會場分別是：1、真空科技與工程；2、表面科學(xué)與應(yīng)用；3、薄膜科學(xué)與技術(shù)；4、納米科學(xué)與技術(shù)；5、電子材料與器件、等離子體技術(shù)；6、顯示技術(shù)等)。學(xué)術(shù)交流將采取多種形式：大會特邀報告，分會邀請報告，分會口頭報告，張貼報告，會間將評選“最佳張貼報告獎”。

　　征文范圍：

　　1、真空科技與工程(真空科學(xué)與技術(shù)、真空工程、真空冶金與表面工程、真空獲得與測量、質(zhì)譜分析與檢漏)

　　2、表面科學(xué)與應(yīng)用(表面科學(xué)與技術(shù)、應(yīng)用表面科學(xué)與技術(shù))

　　3、薄膜科學(xué)與技術(shù)(薄膜生長機理、制備技術(shù)和應(yīng)用)

　　4、納米科學(xué)與技術(shù)(納米科學(xué)與技術(shù)、納米生物與生物界面)

　　5、電子材料與器件、等離子體技術(shù)(電子材料與器件、真空微電子學(xué)、等離子體物理與技術(shù))

　　6、顯示技術(shù)(顯示技術(shù))

　　一、征文要求

　　1、本次學(xué)術(shù)會議歡迎與會者踴躍投稿，只需提交論文摘要(中、英文均可)，網(wǎng)站上有摘要模版供下載編輯。

　　2、本次會議的摘要投稿請通過會議官方網(wǎng)站進行，

　　網(wǎng)址：http://www.cvsnet.org.cn，網(wǎng)站投稿開通時間為2016 年3月1日，參會者需要先在網(wǎng)站上注冊，然后根據(jù)摘要模板編輯摘要格式，并依照網(wǎng)站上說明提交摘要。(詳情見會議網(wǎng)站上的論文投稿流程說明)

　　3、大會將出版論文摘要集，為統(tǒng)一摘要格式，請務(wù)必采用網(wǎng)站提供的摘要模板編輯。