常壓累積法檢漏所采用的檢測儀器一般為質(zhì)譜儀器(包括氦質(zhì)譜檢漏儀) 。由于質(zhì)譜儀器的離子源大多是熱陰極電子碰撞式電離離子源, 其工作壓力在10- 2 Pa 以下。為保證離子源的正常工作壓力, 必須通過一定的取樣系統(tǒng), 將被檢系統(tǒng)中氣體樣品的一部分注入質(zhì)譜儀的離子源(離子源中的壓力保持在其正常工作的壓力范圍) 中進(jìn)行分析, 然后再根據(jù)分析結(jié)果和取樣過程確定出被檢件的漏率值。

       采用常壓累積法質(zhì)譜檢漏技術(shù), 涉及到被檢件和集氣容器的吸附、脫附, 進(jìn)樣系統(tǒng)的分餾以及集氣容器的滲透等諸多因素, 使測量結(jié)果的準(zhǔn)確度和可靠度受到限制。通過對常壓累積法質(zhì)譜檢漏過程和標(biāo)定方法的分析, 考察影響測量準(zhǔn)確度和可靠度的因素,進(jìn)而探討消除影響測量因素可能的努力方向。

常壓累積法檢漏技術(shù)

基本原理

       如圖1所示, 被檢件內(nèi)充入了一定壓力的示漏氣體, 裝于一特制的集氣容器內(nèi), 集氣容器空腔內(nèi)為常壓大氣。如果被檢件有漏, 示漏氣體通過漏孔進(jìn)入集氣容器中, 使得集氣容器內(nèi)的示漏氣體的分壓力增加。經(jīng)過一定的時(shí)間, 集氣容器內(nèi)示漏氣體的分壓力增加到一定的值。通過質(zhì)譜儀器測量集氣容器內(nèi)示漏氣體的分壓力的變化, 便可得出被檢件的總漏率。

圖1　常壓累積法檢漏原理示意圖

      設(shè)集氣容器空腔的凈容積為V ; 被檢件的總漏率為Q; 由被檢件漏出的示漏氣體全部進(jìn)入集氣容器空腔的空間內(nèi), 并且在累積時(shí)間t 內(nèi)集氣容器內(nèi)的示漏氣體分壓力增量p 除由被檢件泄漏無其它來源。被檢件的總漏率可以由下式求得:

Q = pV/t