在沉積時間分別為1 h、1.5 h、2 h 及2.5 h 的條件下，分別用磁控濺射法制備了ZnS 薄膜，用XRD、SEM、臺階儀、橢偏儀等實驗儀器進行物性檢測，最終發(fā)現(xiàn)，沉積時間越長的薄膜，晶粒越小，密度越大，折射率越大;消光系數(shù)受晶粒大小、晶界多少、孔隙率等多種因素影響，呈現(xiàn)復(fù)雜變化。

　　硫化鋅是一種具有較寬帶隙的直接帶隙半導(dǎo)體材料，在光、電方面的一些物理性質(zhì)非常優(yōu)越。材料目前已被大量應(yīng)用于太陽能電池、光電材料、紅外窗口材料、化工材料等諸多領(lǐng)域。隨著薄膜技術(shù)的日益發(fā)展，硫化鋅薄膜所具有的量子尺寸效應(yīng)、小尺寸效應(yīng)、表面效應(yīng)、宏觀量子隧道效應(yīng)等顯示出了其廣闊的應(yīng)用前景。因此，如何選擇恰當(dāng)?shù)闹苽浞椒ㄒ约霸谥苽溥^程中通過摻雜改性來提高硫化鋅薄膜的應(yīng)用效能已成為硫化鋅材料研究中的一個重要課題。在眾多制備方法中，真空技術(shù)網(wǎng)(http://www.healwit.com.cn/)認為磁控濺射法能夠更好的覆蓋襯底，形成比較致密的薄膜。

　　本文用磁控濺射法制備了ZnS薄膜，并對薄膜的物理性質(zhì)及光學(xué)性質(zhì)進行了細致的研究。為ZnS薄膜材料的進一步應(yīng)用，提供了實驗依據(jù)。

　　1、實驗

　　實驗使用射頻磁控濺射設(shè)備制備ZnS 薄膜，以硫化鋅塊材為靶材，玻璃作為襯底。將真空抽至1.8×10^-4 Pa。襯底加溫至200 ℃。通入N2，氣流速度為40.0。射頻儀調(diào)節(jié)90 W，16.8 A，分別于1 h、1.5 h、2 h 和2.5 h 后，結(jié)束濺射過程。表面結(jié)構(gòu)觀測采用日立SU2080 型掃描電子顯微鏡、晶體結(jié)構(gòu)分析采用北京普析通用XD-3 型XRD 衍射儀，設(shè)定起始角= 20°，終止角= 60°。步寬= 0.02°。波長=1.5406 nm，工作電壓36 kV，工作電流20 mA。對光學(xué)系數(shù)的分析采用了HORIBAJOBIN YVON MM-16 型橢偏儀，70°入射角，光的能量范圍1.461 eV~2.885 eV 進行擬合。

　　2、結(jié)果及討論

　　2.1、掃面電子顯微鏡(SEM)結(jié)構(gòu)觀察

　　用日立SU2080 場發(fā)射掃描電子顯微鏡觀測，結(jié)果如圖1 所示。通過電鏡成像，可直觀發(fā)現(xiàn)，本方法制備的ZnS 薄膜具有較完整和較均勻的結(jié)構(gòu)。進一步的觀察發(fā)現(xiàn)，薄膜沉積時間越長，薄膜表面顆粒越致密，顆粒邊界越清晰。沉積時間越短則相反。沉積時間為2.5 h 的ZnS 薄膜顆粒邊界最為模糊，晶粒也最小，隨著沉積時間變長，薄膜晶粒逐漸變小。

圖1 (a)-(d)：1-2.5 h SEM 圖像

　　2.2、硫化鋅薄膜結(jié)構(gòu)分析

　　硫化鋅的晶體結(jié)構(gòu)具有閃鋅礦型(立方結(jié)構(gòu)，β 相)和纖鋅礦型(六角結(jié)構(gòu)，α 相)兩種。因此，在研究硫化鋅薄膜結(jié)構(gòu)的過程中，首先要確定制備的究竟是何種相的硫化鋅。低溫煅燒形成β 相為主的材料，高溫煅燒形成α 相為主的材料，相變溫度為1020 ℃，所含雜質(zhì)不同其相變溫度略有不同。本次實驗采用靶材為β 相ZnS。硫化鋅晶體中，所有的基元都是等同的，其中的硫和鋅分別組成面心立方的布喇菲格子，而沿空間對角線位移1/4 長度套構(gòu)而成，這樣的結(jié)構(gòu)統(tǒng)稱為立方晶相(β 相)結(jié)構(gòu).整個晶體可看為是這種基元在空間三個不同方向各按一定距離，周期性地平移而構(gòu)成。

　　采用北京普析通用XD-3 型XRD 衍射儀對ZnS 薄膜樣品進行光譜分析。測得結(jié)果為圖2。

圖2 XRD 立體圖像

　　從XRD 圖形(圖3)可以看出：不同衍射峰峰高不同，按沉積時間由長至短，衍射峰高度越來越低，驗證了薄膜厚度與衍射峰信號的正相關(guān)性。由圖1~2 可明顯看出，衍射峰位于29°附近，與標準卡片的立方晶向ZnS 卡圖比較，與代表β-ZnS 的(111)面的28.5°峰位非常吻合;由此可確認本次實驗成功制備了β 相ZnS。

圖3 橢偏儀擬合物理模型

　　3、結(jié)論

　　本文采用磁控濺射的方法，在確定的功率(90 W)和襯底溫度(200 ℃)下，通過對沉積時間(1 h~2.5 h)的控制，制備出β 相ZnS 薄膜。對薄膜的物理性質(zhì)研究發(fā)現(xiàn)沉積時間越長，晶粒越小。沉積時間越長，則晶粒越致密。對薄膜的光學(xué)性質(zhì)研究發(fā)現(xiàn)：在薄膜晶粒大小相近的情況下，沉積時間越長，則折射率n 越大。消光系數(shù)受多種因素影響，與晶界多少、晶粒大小和氣孔少密切相關(guān)，呈現(xiàn)復(fù)雜變化。