雙靶共濺射TiAl系高溫耐磨薄膜制備與研究

2014-01-11 張曄 常州機電職業(yè)技術學院模具技術系

  在同一次雙靶共濺射過程中,通過改變基體相對于靶材的位置制備了不同化學成份TiAl系金屬間化合物薄膜。采用EDS、XRD、SEM、AFM等手段對薄膜的成分、物相結構和表面形貌進行了表征,并對薄膜的高溫摩擦行為進行了分析研究。實驗結果表明:薄膜的化學成分、物相結構、表面形貌都隨著濺射位置的改變而發(fā)生變化,500℃以下時位于雙靶中間位置的薄膜具有體系中最佳的性能。

  Ti-Al系金屬間化合物薄膜是一類典型的硬質(zhì)薄膜,因具有很好的抗氧化性和高溫耐磨性而受到廣泛的關注,目前這類薄膜的制備多采用復合靶濺射的方法。因為Ti-Al系金屬間化合物種類較多且物相性能各異,而采用復合靶制備的薄膜成分較單一,所以欲獲得大范圍成分變化的薄膜就得更換靶材多次濺射,非但增加了薄膜制備的成本,而且給系統(tǒng)性的研究這類薄膜帶來一定的困難。本實驗采用純金屬鋁和鈦(純度均為99.99%)作為雙靶,通過改變基體相對于靶材的濺射位置,在同一次濺射過程中,制備了一系列大范圍成份變化的Ti-Al系金屬間化合物薄膜。通過對不同位置制備薄膜的物相結構、形貌、以及高溫摩擦行為差異的分析,探索其減摩耐磨機理。

1、試樣制備與試驗方法

  1.1、基體預處理

  基體材料選擇0Cr25Ni20耐熱不銹鋼。將塊體切割成20mm×20mm×8mm樣塊,除油,拋光打磨至鏡面(粗糙度Ra0.3μm)后用丙酮清洗,在真空干燥箱中烘干待用。

  1.2、薄膜制備

  實驗設備采用PSII型雙放電腔微波ECR等離子體增加沉積儀,濺射靶材選用純度均為99.99%且大小尺寸相同的純金屬Al靶和Ti靶,雙靶之間相對呈90°放置,雙靶與試樣臺之間的角度均為45°,工作氣體為純度≥99.99%的氬氣,各基體按圖1放置。

濺射位置示意圖

圖1 濺射位置示意圖

  如圖1所示,為系統(tǒng)地研究不同濺射位置薄膜結構、形貌以及性能的差異,將試樣臺平均劃分為6個區(qū)域,分別將最靠近鈦靶和鋁靶的位置標為P1和P6。將12個試樣分別沿試樣臺中心線按2個/區(qū)域的辦法平均放置,并從S1到S12進行標號,其中最靠近鈦靶的試樣標為S1而最靠近鋁靶的試樣標為S12。濺射在室溫下進行,雙靶均采用水冷,對所有試樣進行100W,20min的反濺清洗后送入主濺射倉中濺射,濺射時本底真空度抽至高于5×10-4Pa,濺射工作氣壓為0.13Pa,雙靶功率均為300W,濺射時間為2h,濺射過程中,試樣臺不旋轉。

  由于在同一次濺射過程中,各位置其它濺射參數(shù)完全相同,薄膜厚度對其性能結構的影響大致相當,因此可以在忽略厚度等因素影響的前提下,對Ti-Al基金屬間化合物薄膜的物相組成、表面形貌進行分析,并對其摩擦特性進行評價。

  1.3、薄膜表征與性能檢測

  分別采用JXA-840A型SEM(附帶EDS),D/max/2400型XRD,F(xiàn)UB/SX型AFM以及DCMAX型納米硬度計等設備對薄膜的化學成分、物相結構,表面和側向形貌及磨痕形貌等進行表征;使用UMT-2型多功能摩擦磨損試驗機對薄膜的高溫摩擦磨損性能進行評價。

3、結論

  (1)在同一次濺射過程中制備TiAl系金屬間化合物薄膜的化學成分隨濺射位置的改變而變化;

  (2)隨著熱處理溫度的變化,不同位置制備的薄膜分別出現(xiàn)了α-Ti,無序固溶體(TiAl),有序相γ-TiAl和中間相Al3Ti等多種不同的組織結構;

  (3)中間位置制備的薄膜擁有體系中最佳的表面形貌、硬度及粗糙度;

  (4)溫度在500℃以下時,中間位置制備的薄膜擁有體系中最佳的耐磨減摩性能;

  (5)當溫度達到600℃時,整個體系的薄膜耐磨減摩性能因氧化而下降。