真空鍍膜電化學(xué)清洗知識(shí)

2015-09-29 真空技術(shù)網(wǎng) 真空技術(shù)網(wǎng)整理

  電化學(xué)清洗是在真空鍍膜生產(chǎn)線上常用的一種表面凈化方法,分為兩種,一種是點(diǎn)解侵蝕,一種是電化學(xué)拋光。

  電解侵蝕對(duì)于侵蝕時(shí)間和溶液的要求比較低,比化學(xué)侵蝕的效果更好,它分為陽極和陰極,陽極侵蝕是鍍件接陽極,在50~60℃下通過氧氣氣泡的沖擊把氧化物去掉,而陰極侵蝕是鍍膜接陰極,通過氫氣把氧化物還原的同時(shí)由于氫氣溢出產(chǎn)生的沖擊力把氧化層去掉。

  而陽極侵蝕是最常用的方法,不過對(duì)于復(fù)雜的鍍件,會(huì)出現(xiàn)過度侵蝕和不均勻侵蝕的問題,而陰極侵蝕雖然不會(huì)出現(xiàn)過度侵蝕,但會(huì)出現(xiàn)滲氫發(fā)脆。

  電化學(xué)拋光的電解液和點(diǎn)解侵蝕是不一樣的,不過原理差不多,電化學(xué)拋光針對(duì)金屬的表面凈化效果更好,鍍件接陽極,用面積大于鍍件5倍以上的銅或鋼接陰極,兩極之間距離50~120mm,讓電場(chǎng)集中到高點(diǎn)處使金屬表面的氧化層去除,達(dá)到電化學(xué)拋光凈化的效果,金屬鍍件表面會(huì)變得很均勻,有光澤。