摘　要：本文利用高真空離子束輔助沉積系統(tǒng)(IBAD),在室溫下制備了ZrN、TiAlN和一系列ZxN/TiAlN納米多層膜,利用XRD、納米力學(xué)測試系統(tǒng)和多功能材料表面性能實(shí)驗儀,分析了束流和基底溫度對薄膜的微結(jié)構(gòu)和機(jī)械性能的影響.結(jié)果表明:大部分多層膜的納米硬度與彈性模量值都高于兩種個體材料硬度的平均值,當(dāng)輔助束流為5 mA時,多層膜硬度達(dá)到30.6 GPa.基底溫度的升高,會顯著降低薄膜的殘余應(yīng)力,但對薄膜的硬度,摩擦系數(shù)沒有明顯影響.

　　關(guān)鍵詞：離子束輔助沉積;ZrN/TiAlN納米多層膜;硬度;離子束流;基底溫度

　　分類號：O484　文獻(xiàn)標(biāo)識碼：A

　　文章編號：1672-7126(2008)增刊-029-04

Deposition Conditions and Mechanical Properties of ZrN/TiAlN Nanoscaled Multilayered Coatings

Cao Meng　 Li Qiang　 Yang Ying　 Deng Xiangyun　 Li Dejun