摘　要：硬質(zhì)涂層對(duì)工件表面改性已經(jīng)成為現(xiàn)代先進(jìn)制造加工行業(yè)越來越重視的工藝,工件一般為復(fù)雜外形,保證工件表面涂層性能結(jié)構(gòu)的一致性尤為重要,為此,必須研究工件與靶源之間的相對(duì)位置對(duì)涂層結(jié)構(gòu)性能影響的關(guān)系,為涂層工藝的工程化應(yīng)用提供理論依據(jù).本文采用射頻反應(yīng)磁控濺射分別在高速鋼和單晶硅片基體上沉積了氧化鉻薄膜,研究了樣品表面與靶表面相對(duì)取向?qū)ν繉拥南嘟Y(jié)構(gòu)、表面和斷面形貌、力學(xué)性能、生長模式等因素的影響.結(jié)果表明濺射方法沉積涂層的臨界角度為45°,該臨界點(diǎn)決定了涂層的性質(zhì)與生長模式.

　　關(guān)鍵詞：濺射角;顯微結(jié)構(gòu);反應(yīng)磁控濺射;氧化鉻薄膜

　　分類號(hào)：TG174.444;O484.4　文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：A

　　文章編號(hào)：1672-7126(2008)增刊-013-04

Sputtering Angle and Quality of Chromium Oxide Coatings on Irregularly Shaped Work-Piece

Luo Qinghong　 Yang Huisheng　 Zhang Tianwei　 Wang Yanbin　 Lu Yonghao　 Yu Dongli

　　楊會(huì)生,聯(lián)系人:Tel:13910651209,Fax:(010)82376048,E-mail:hyang@263.net

　　作者單位：羅慶洪(北京科技大學(xué),材料物理與化學(xué)系,北京,100083)

　　楊會(huì)生(北京科技大學(xué),材料物理與化學(xué)系,北京,100083)

　　張?zhí)靷?北京科技大學(xué),材料物理與化學(xué)系,北京,100083)

　　王燕斌(北京科技大學(xué),材料物理與化學(xué)系,北京,100083)

　　陸永浩(北京科技大學(xué),材料物理與化學(xué)系,北京,100083)

　　于棟利(燕山大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,秦皇島,066004)

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