直流濺射并結(jié)合熱處理工藝制備氧化鎳薄膜

2009-04-15 張宏斌 河南科技大學材料科學與工程學院

         電子器件的微型化迫切要求微電池與之匹配,全固態(tài)薄膜鋰電池因其能量密度大、工作電壓高、循環(huán)壽命長、安全性好等優(yōu)點受到人們的重視。然而,當前集成電路制作工藝多數(shù)仍采用回流焊(reflow soldering)技術(shù),該過程瞬間將器件加熱至250℃以上。以金屬鋰為陽極的薄膜鋰電池因鋰的低熔點(180℃)將被嚴重破壞,失去充放電能力。因此,新型陽極薄膜的制備成為全固態(tài)薄膜鋰電池研究的一個主要方向。一些過渡金屬氧化物或氮化物由于具有較高的熔點、較低的電位、穩(wěn)定的電化學循環(huán)性能等特點成為目前研究較多的全固態(tài)薄膜鋰電池陽極材料。

         NiO 結(jié)構(gòu)中因沒有可供Li+ 嵌入/脫出的通道,也無法與金屬鋰形成合金,一直認為不適合作為鋰離子電池的陽極材料。最近,Poizot等報道了NiO不僅能夠和Li 發(fā)生可逆的電化學反應(yīng),而且經(jīng)多次循環(huán)后仍可保持較高的比容量和良好的循環(huán)性能,從而倍受研究者的廣泛關(guān)注。Wang 等采用脈沖激光沉積(PLD)法成功制備了納米尺寸的氧化鎳薄膜,作為鋰離子電池的陽材料,具有良好的電化學性能。另外,自動化論壇也報道了采用射頻磁控濺射法、化學氣相沉積(CVD)和電子束沉積等技術(shù)沉積NiO 薄膜,但這些方法均存在沉積速率低、成本高或難以大面積沉積薄膜等缺點。最近,我們研究小組曾采用真空蒸鍍并結(jié)合熱氧化方法獲得了光滑致密的納米NiO 薄膜,具有較高的比容量和充放電性能。

         然而,100 次以上循環(huán)后因薄膜易從基片上脫落,使其電化學性能急劇惡化。因此,提高薄膜與基片的結(jié)合強度是改善其電化學性能的關(guān)鍵。鑒于此,本文采用薄膜與基片結(jié)合牢固、操作簡單、成本較低的直流濺射法制備NiO薄膜,并研究退火溫度對薄膜組成、結(jié)構(gòu)及形貌的影響,并初步考察其電化學性能。

         將高純Ni靶和經(jīng)過拋光、清洗后的基片固定在高真空鍍膜臺上,基片與靶的距離約為25 mm;預(yù)抽真空至1×10- 3 Pa,通入摩爾比為1:1 的Ar 和O2, 工作壓力為0.1 Pa; 在基片與靶之間加上800~1000V的高壓,電流為5~6 mA,濺射6~10 h; 將所得樣品分別在400℃、500℃、600℃、700℃下退火,退火升溫速率1℃/min,保溫2 h,隨爐冷卻至室溫。利用X 射線衍射儀(德國Bruker 公司D8 型)、掃描電鏡( 日本電子株式會社JSM- 5610LV 型)以及132- 25 型EDX分別對結(jié)構(gòu)、形貌和組成進行了表征,在LAND 電池測試系統(tǒng)上考察NiO 薄膜的電化學性能。